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一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室的制作方法

時(shí)間:2020-05-24  來(lái)源:車(chē)間凈化工程|食品凈化車(chē)間|潔凈手術(shù)室|潔凈實(shí)驗室-濟南順奇凈化工程有限公司  瀏覽次數: 210 次
文章簡(jiǎn)介:一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室的制作方法, 一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室的制作方法 【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室,包括一大型潔凈空間及回風(fēng)通道;大型潔凈空間從上到下包括架構空間、

一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室的制作方法

【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室,包括一大型潔凈空間及回風(fēng)通道;大型潔凈空間從上到下包括架構空間、潔凈空間和循環(huán)空間,所述循環(huán)空間內設有生產(chǎn)輔助設備;所述循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域的四周均設有隔板,使其構成獨立的密閉空間;在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少1個(gè)回風(fēng)柱,所述回風(fēng)柱的頂端與架構空間連通,其底端與高架地板連通;所述回風(fēng)柱內設有風(fēng)機。本實(shí)用新型解決了生產(chǎn)輔助設備易產(chǎn)生泄漏的問(wèn)題;與此同時(shí),在潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設置多個(gè)回風(fēng)柱,通過(guò)回風(fēng)柱實(shí)現氣流循環(huán),同時(shí)還充分利用了其內的潔凈空氣,而且降低了消耗。

【專(zhuān)利說(shuō)明】一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室

【技術(shù)領(lǐng)域】

[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室,是指用于半導體的生產(chǎn)場(chǎng)合。

【背景技術(shù)】

[0002]半導體廠(chǎng)房是專(zhuān)門(mén)用來(lái)制備半導體器件的地方,目前已經(jīng)得到了廣泛應用。由于半導體器件的特殊性,要求半導體廠(chǎng)房必須設計成潔凈室,以滿(mǎn)足恒溫恒濕以及潔凈度等要求。對于一些高端半導體的生產(chǎn)廠(chǎng)房,如32/28nm,甚至以下的高端制程,不但對潔凈度的要求較高,且對漂浮于空氣中的懸浮化學(xué)分子氣體污染更為嚴格。

[0003]現有的用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室參見(jiàn)附圖1所示,主要包括新風(fēng)輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間,所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間4、潔凈空間5和循環(huán)空間6,架構空間和潔凈空間之間設有天花板7,潔凈空間和循環(huán)空間之間設有高架地板2和混凝土板3。

[0004]所述大型潔凈空間內設有各種加工設備,在循環(huán)空間(又稱(chēng)技術(shù)夾層)內會(huì )設有各種生產(chǎn)輔助設備1,如真空泵、冷凍機等,實(shí)際應用發(fā)現:真空泵會(huì )因為震動(dòng)而松脫,導致氣體泄漏;冷凍機的配管在清洗過(guò)程中因未鎖緊或接頭松動(dòng)而泄漏腐蝕性氣體。在以往的案例中,尤其是干刻蝕區會(huì )經(jīng)常發(fā)生上述事故,導致腐蝕性氣體泄漏,這不僅會(huì )造成導線(xiàn)腐蝕,而且這些腐蝕性氣體還會(huì )通過(guò)回風(fēng)通道進(jìn)入整個(gè)潔凈空間,造成散布擴散,從而影響了產(chǎn)品的質(zhì)量。這種因為位于循環(huán)空間內的生產(chǎn)輔助設備泄漏而造成整個(gè)潔凈空間的污染事件時(shí)有發(fā)生。

[0005]針對上述問(wèn)題,現有技術(shù)采用的方法是在潔凈室內設置化學(xué)過(guò)濾器,但由于潔凈室內的空間較大,很難做到完全清除,且該法的成本極高;這對于一些高端半導體的生產(chǎn)廠(chǎng)房(如32/28nm高端制程)是非常致命的,原因是高端半導體產(chǎn)品對腐蝕性氣體的含量要求更高。因此,開(kāi)發(fā)一種能避免腐蝕性氣體影響的潔凈室,對于一些高端半導體的生產(chǎn)廠(chǎng)房具有積極的現實(shí)意義。

【發(fā)明內容】

[0006]本實(shí)用新型的目的是提供一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室。

[0007]為達到上述發(fā)明目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室,包括新風(fēng)輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道;

[0008]所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間、潔凈空間和循環(huán)空間,架構空間和潔凈空間之間設有天花板,潔凈空間和循環(huán)空間之間設有高架地板和混凝土板;所述循環(huán)空間內設有生產(chǎn)輔助設備;

[0009]所述循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域的四周均設有隔板,使其構成獨立的密閉空間;循環(huán)空間內還設有連通管,連通管的一端與所述密閉空間連通,另一端與潔凈室的外界連通;

[0010]在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少I(mǎi)個(gè)回風(fēng)柱,所述回風(fēng)柱的頂端與架構空間連通,其底端與高架地板連通;

[0011]所述回風(fēng)柱內設有風(fēng)機。

[0012]上文中,所述循環(huán)空間內還設有連通管,其與所述密閉空間連通,從而當生產(chǎn)輔助設備產(chǎn)生泄漏時(shí),可以通過(guò)連通管將腐蝕性氣體排出。在連通管的出口處,還可以設置洗滌塔。連通管上還可以設有閥門(mén)。

[0013]本實(shí)用新型通過(guò)設置隔板將循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域隔離出來(lái),從而解決了生產(chǎn)輔助設備易產(chǎn)生泄漏的問(wèn)題。然而,與此同時(shí),由于循環(huán)空間的封閉設置,導致其上方的潔凈空間的氣流循環(huán)無(wú)法完成,因此,在潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設置多個(gè)回風(fēng)柱,通過(guò)回風(fēng)柱實(shí)現氣流循環(huán)。至于回風(fēng)柱的數量,應當根據實(shí)際情況設定。

[0014]所述回風(fēng)柱內設有風(fēng)機。風(fēng)機的作用是使其內的氣體向上流動(dòng),形成氣流循環(huán)。

[0015]由于回風(fēng)柱的設置,其對應的潔凈空間可以順利的完成氣流循環(huán),因此其兩側的回風(fēng)通道就成了擺設,因此,可以將回風(fēng)通道取消,改造成正常的潔凈空間使用,增加可用空間。

[0016]上述技術(shù)方案中,所述架構空間和高架地板內相對于所述密閉空間的位置均設有隔板,使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環(huán)境結構。

[0017]優(yōu)選的,所述架構空間、高架地板和潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置均設有隔板,使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環(huán)境結構。

[0018]上述技術(shù)方案中,所述密閉空間的頂端設有密封板,所述密封板設于高架地板和混凝土板之間。

[0019]上述技術(shù)方案中,所述回風(fēng)柱內設有干盤(pán)管。以進(jìn)行溫度調節。在某些生產(chǎn)區域,設備發(fā)熱量低但潔凈風(fēng)需求量多,造成實(shí)際需要通過(guò)干盤(pán)管的風(fēng)量比真正通過(guò)的風(fēng)量多,形成能源浪費。此時(shí)還可以在天花板上增設回風(fēng)口,搭配回風(fēng)柱內設置的干盤(pán)管,而獲得上述問(wèn)題的較好解決。

[0020]由于上述技術(shù)方案運用,本實(shí)用新型與現有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):

[0021]1、本實(shí)用新型設計得到了一種新的用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室,通過(guò)設置隔板將循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域隔離出來(lái),從而解決了生產(chǎn)輔助設備易產(chǎn)生泄漏的問(wèn)題;與此同時(shí),由于循環(huán)空間的封閉設置,導致其上方的潔凈空間的氣流循環(huán)無(wú)法完成,因此在潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設置多個(gè)回風(fēng)柱,通過(guò)回風(fēng)柱實(shí)現氣流循環(huán),同時(shí)還充分利用了其內的潔凈空氣,而且降低了消耗;

[0022]2、本實(shí)用新型在循環(huán)空間內還設置了連通管,其與所述密閉空間連通,從而當生產(chǎn)輔助設備產(chǎn)生泄漏時(shí),可以通過(guò)連通管將腐蝕性氣體排出;在連通管的出口處,還可以設置洗滌塔;從而較好地解決了生產(chǎn)輔助設備的泄漏問(wèn)題,且避免了腐蝕性氣體影響的潔凈室;

[0023]3、本實(shí)用新型在架構空間和高架地板內相對于密閉空間的位置均設有隔板,使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環(huán)境結構,再配合其內的回風(fēng)柱,構成了潔凈微環(huán)境結構,從而充分利用了其內的空間;且回風(fēng)柱可以在潔凈微環(huán)境結構中形成微循環(huán),不僅充分利用了其內的潔凈空氣,而且降低了消耗;

[0024]4、本實(shí)用新型在回風(fēng)柱內設置干盤(pán)管,可以進(jìn)行溫度調節;解決了某些生產(chǎn)區域設備發(fā)熱量低但潔凈風(fēng)需求量多,造成實(shí)際需要通過(guò)干盤(pán)管的風(fēng)量比真正通過(guò)的風(fēng)量多而形成的能源浪費問(wèn)題;

[0025]5、本實(shí)用新型的結構簡(jiǎn)單,易于制備,適于推廣應用。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】

[0026]圖1是【背景技術(shù)】中的潔凈室的局部剖視圖;

[0027]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例一的局部剖視圖;

[0028]圖3是圖2的氣流示意圖;

[0029]圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例二的局部剖視圖;

[0030]圖5是圖4的氣流示意圖。

[0031]其中:1、生產(chǎn)輔助設備;2、高架地板;3、混凝土板;4、架構空間;5、潔凈空間;6、循環(huán)空間;7、天花板;8、隔板;9、回風(fēng)柱;10、風(fēng)機;11、第二隔板;12、密封板;13、干盤(pán)管。

【具體實(shí)施方式】

[0032]下面結合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:

[0033]實(shí)施例一

[0034]參見(jiàn)圖2?3所示,一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室,包括新風(fēng)輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道;

[0035]所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間4、潔凈空間5和循環(huán)空間6,架構空間和潔凈空間之間設有天花板7,潔凈空間和循環(huán)空間之間設有高架地板和混凝土板;所述循環(huán)空間內設有生產(chǎn)輔助設備;

[0036]所述循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域的四周均設有隔板8,使其構成獨立的密閉空間;循環(huán)空間內還設有連通管,連通管的一端與所述密閉空間連通,另一端與潔凈室的外界連通;

[0037]在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少I(mǎi)個(gè)回風(fēng)柱9,所述回風(fēng)柱的頂端與架構空間連通,其底端與高架地板連通;

[0038]所述回風(fēng)柱內設有風(fēng)機10。所述回風(fēng)柱內設有干盤(pán)管13。

[0039]所述架構空間和高架地板內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板11,使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環(huán)境結構。

[0040]所述密閉空間的頂端設有密封板12,所述密封板設于高架地板和混凝土板之間。

[0041]上文中,所述循環(huán)空間內還設有連通管,其與所述密閉空間連通,從而當生產(chǎn)輔助設備產(chǎn)生泄漏時(shí),可以通過(guò)連通管將腐蝕性氣體排出。在連通管的出口處,還可以設置洗滌塔。連通管上還可以設有閥門(mén)。

[0042]本實(shí)用新型通過(guò)設置隔板將循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域隔離出來(lái),從而解決了生產(chǎn)輔助設備易產(chǎn)生泄漏的問(wèn)題。然而,與此同時(shí),由于循環(huán)空間的封閉設置,導致其上方的潔凈空間的氣流循環(huán)無(wú)法完成,因此,在潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設置多個(gè)回風(fēng)柱,通過(guò)回風(fēng)柱實(shí)現氣流循環(huán)。至于回風(fēng)柱的數量,應當根據實(shí)際情況設定。

[0043]所述回風(fēng)柱內設有風(fēng)機。風(fēng)機的作用是使其內的氣體向上流動(dòng),形成氣流循環(huán)。

[0044]由于回風(fēng)柱的設置,其對應的潔凈空間可以順利的完成氣流循環(huán),因此其兩側的回風(fēng)通道就成了擺設,因此,可以將回風(fēng)通道取消,改造成正常的潔凈空間。

[0045]實(shí)施例二

[0046]參見(jiàn)圖4飛所示,一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室,包括新風(fēng)輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道;

[0047]所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間、潔凈空間和循環(huán)空間,架構空間和潔凈空間之間設有天花板,潔凈空間和循環(huán)空間之間設有高架地板和混凝土板;所述循環(huán)空間內設有生產(chǎn)輔助設備;

[0048]所述循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域的四周均設有隔板8,使其構成獨立的密閉空間;循環(huán)空間內還設有連通管,連通管的一端與所述密閉空間連通,另一端與潔凈室的外界連通;

[0049]在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少I(mǎi)個(gè)回風(fēng)柱,所述回風(fēng)柱的頂端與架構空間連通,其底端與高架地板連通;

[0050]所述回風(fēng)柱內設有風(fēng)機。所述回風(fēng)柱內設有干盤(pán)管。

[0051]所述架構空間、高架地板和潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板11,使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環(huán)境結構。

【權利要求】

1.一種用于半導體廠(chǎng)房的潔凈室,包括新風(fēng)輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道; 所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間(4)、潔凈空間(5)和循環(huán)空間(6),架構空間和潔凈空間之間設有天花板(7),潔凈空間和循環(huán)空間之間設有高架地板(2)和混凝土板(3);所述循環(huán)空間內設有生產(chǎn)輔助設備;其特征在于: 所述循環(huán)空間內設置生產(chǎn)輔助設備的區域的四周均設有隔板(8),使其構成獨立的密閉空間;循環(huán)空間內還設有連通管,連通管的一端與所述密閉空間連通,另一端與潔凈室的外界連通; 在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少I(mǎi)個(gè)回風(fēng)柱(9),所述回風(fēng)柱的頂端與架構空間連通,其底端與高架地板連通; 所述回風(fēng)柱內設有風(fēng)機(10)。

2.根據權利要求1所述的潔凈室,其特征在于:所述架構空間和高架地板內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板(11),使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環(huán)境結構。

3.根據權利要求2所述的潔凈室,其特征在于:所述架構空間、高架地板和潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板,使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環(huán)境結構。

4.根據權利要求1所述的潔凈室,其特征在于:所述密閉空間的頂端設有密封板(12),所述密封板設于高架地板和混凝土板之間。

5.根據權利要求1所述的潔凈室,其特征在于:所述回風(fēng)柱內設有干盤(pán)管(13)。

【文檔編號】F24F7/10GK203783198SQ201420120184

【公開(kāi)日】2014年8月20日 申請日期:2014年3月18日 優(yōu)先權日:2014年3月18日

【發(fā)明者】楊政諭 申請人:亞翔系統集成科技(蘇州)股份有限公司

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